賽默飛ICP光譜儀采用直接驅(qū)動裝置傳動光柵，保證了極快的分析速度和好的重現(xiàn)性。采用40.68MHZ RF發(fā)生器以保證高的信號背景比(S/B)和很低的檢出限。采用新技術(shù)設(shè)計了優(yōu)良的檢測系統(tǒng)，保證了分析質(zhì)量的可靠。在等離子體發(fā)射光譜分析中具有非常好的檢出限和任意選擇分析元素的靈活性。從而可分析各種物資材料的樣品成分, 特別在各種高純材料及高純稀土的雜質(zhì)成分分析方面更具有優(yōu)勢。系統(tǒng)采用了進(jìn)口元器件，非常有保障的保證了定位能力，并且還有先進(jìn)的電子控制系統(tǒng)，您可以放心使用購買。

　　儀器可用標(biāo)樣中目標(biāo)元素的“真實濃度”與分析線對和強(qiáng)度比（R）擬合工作曲線（校準(zhǔn)曲線）。如果鐵含量變化過大，如高、中合金鋼，其影響不可忽略，需要用標(biāo)樣中目標(biāo)元素的“相對濃度”（或“濃度比”）與分析線對和強(qiáng)度比（R）擬合工作曲線，這就是我國光譜分析的前輩講的“誘導(dǎo)含量法”。如果希望用同一工作曲線同時分析高、中、低合金鋼，那就都要用“相對濃度”來校正基體含量的影響。更進(jìn)一步，如果既要校正基體含量的影響，又要校正共存元素的干擾，就應(yīng)該用“表觀濃度”來擬合工作曲線。

　　賽默飛ICP光譜儀在使用前應(yīng)先進(jìn)行校正，具體方法如下：

　　一、 光學(xué)系統(tǒng)校正

　　在儀器中，操作軟件自動控制儀器每30分鐘快速校正、每2小時*校正光學(xué)系統(tǒng)。如果實驗室環(huán)境溫度變化較大，不能保證工作條件，可能造成測量結(jié)果數(shù)據(jù)漂移。

　　二、 等離子體位置校正

　　等離子體位置校正的目的是將光源對準(zhǔn)光學(xué)系統(tǒng)。通常在重新裝配進(jìn)樣系統(tǒng)后，點燃等離子體，用Mn溶液（10ug/mL）校正。在等離子體位置校正過程中，值得注意的是：確保選中Mn  257.610波長、Mn溶液能夠正常進(jìn)入霧化器并形成氣溶膠進(jìn)入等離子體。如果上述條件沒有滿足，可能造成校正失敗。

　　三、 波長校正

　　在使用任何一個元素、任何一個波長進(jìn)行分析測量之前，都要做波長校正。賽默飛ICP光譜儀波長校正的目的是：對事先存儲在譜線庫中的理論波長坐標(biāo)位置進(jìn)行修正、保證實際使用的波長坐標(biāo)位置準(zhǔn)確。